Отрывок: Учитывая диапазон значений коэффициента диффузии мономеров различных резистов в слое резиста при температурах выше температуры стеклования [6], было установлено, мономер, образовавшийся в результате деполимеризации, в дальнейшем эффективно выходит из слоя резиста (временем выхода мономера можно пренебречь). Моделирование растекания профиля проводилось с использованием аналитического подхода на...
Полная запись метаданных
Поле DC | Значение | Язык |
---|---|---|
dc.contributor.author | Сидоров Ф. А. | ru |
dc.contributor.author | Рогожин А. Е. | ru |
dc.coverage.spatial | вязкость резиста | ru |
dc.coverage.spatial | длина цепи деполимеризации | ru |
dc.coverage.spatial | моделирование профиля линии | ru |
dc.coverage.spatial | неоднородное распределение молекулярной массы | ru |
dc.coverage.spatial | термостимулированная электронно-лучевая литография | ru |
dc.coverage.spatial | термическая деполимеризация | ru |
dc.coverage.spatial | формирование микрооптических структур | ru |
dc.creator | Сидоров Ф. А., Рогожин А. Е. | ru |
dc.date.issued | 2022 | ru |
dc.identifier | RU\НТБ СГАУ\491314 | ru |
dc.identifier.citation | Сидоров, Ф. А. Моделирование процесса формирования микрооптических структур методом термостимулированной электронно-лучевой литографии / Ф. А. Сидоров, А. Е. Рогожин // Информационные технологии и нанотехнологии (ИТНТ-2022) : сб. тр. по материалам VIII Междунар. конф. и молодеж. шк. (г. Самара, 23 - 27 мая) : в 5 т. / М-во науки и образования Рос. Федерации, Самар. нац. исслед. ун-т им. С. П. Королева (Самар. ун-т), Ин-т систем обраб. изобр. РАН - фил. ФНИЦ "Кристаллография и фотоника" РАН. - Самара : Изд-во Самар. ун-та, 2022Т. 1: Компьютерная оптика и нанофотоника / под ред. Е. С. Козловой. - 2022. - С. 013492. | ru |
dc.language.iso | rus | ru |
dc.relation.ispartof | Информационные технологии и нанотехнологии (ИТНТ-2022) : сб. тр. по материалам VIII Междунар. конф. и молодеж. шк. (г. Самара, 23 - 27 мая) : в 5 т. - | ru |
dc.source | Информационные технологии и нанотехнологии (ИТНТ-2022). - Т. 1 : Компьютерная оптика и нанофотоника | ru |
dc.title | Моделирование процесса формирования микрооптических структур методом термостимулированной электронно-лучевой литографии | ru |
dc.type | Text | ru |
dc.citation.spage | 013492 | ru |
dc.citation.volume | 1 | ru |
dc.textpart | Учитывая диапазон значений коэффициента диффузии мономеров различных резистов в слое резиста при температурах выше температуры стеклования [6], было установлено, мономер, образовавшийся в результате деполимеризации, в дальнейшем эффективно выходит из слоя резиста (временем выхода мономера можно пренебречь). Моделирование растекания профиля проводилось с использованием аналитического подхода на... | - |
Располагается в коллекциях: | Информационные технологии и нанотехнологии |
Файлы этого ресурса:
Файл | Размер | Формат | |
---|---|---|---|
978-5-7883-1789-2_2022-013492.pdf | 790.64 kB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Показать базовое описание ресурса
Просмотр статистики
Поделиться:
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.