Отрывок: Формирование результирующего профиля при этом описывается как результат затягивания микрополостей, образующихся в слое резиста при экспонировании. Для этого слой резиста со внутренними микрополостями приближается пилообразной поверхностью, для к...
Полная запись метаданных
Поле DC | Значение | Язык |
---|---|---|
dc.contributor.author | Сидоров Ф. А. | ru |
dc.contributor.author | Рогожин А. Е. | ru |
dc.coverage.spatial | синусоидальные голографические решетки | ru |
dc.coverage.spatial | термическая деполимеризация | ru |
dc.coverage.spatial | термостимулированная электронно-лучевая литография | ru |
dc.creator | Сидоров Ф. А., Рогожин А. Е. | ru |
dc.date.accessioned | 2023-10-02 09:47:03 | - |
dc.date.available | 2023-10-02 09:47:03 | - |
dc.date.issued | 2023 | ru |
dc.identifier | RU\НТБ СГАУ\541492 | ru |
dc.identifier.citation | Сидоров, Ф. А. Моделирование процесса формирования синусоидальных голографических решеток методом термостимулированной электронно-лучевой литографии / Ф. А. Сидоров, А. Е. Рогожин // Информационные технологии и нанотехнологии (ИТНТ-2023) : сб. тр. по материалам IX Междунар. конф. и молодеж. шк. (г. Самара, 17-23 апр. 2023 г.): в 6 т. / М-во науки и высш. образования Рос. Федерации, Самар. нац. исслед. ун-т им. С. П. Королева (Самар. ун-т), Ин-т систем обраб. изобр. РАН - Фил. Федер. науч.-исслед. центра "Кристаллография и фотоника" Рос. акад. наук. - Самара : Изд-во Самар. ун-та, 2023Т. 1: Компьютерная оптика и нанофотоника / под ред. Е. С. Козловой. - 2023. - С. 013262. | ru |
dc.identifier.uri | http://repo.ssau.ru/handle/Informacionnye-tehnologii-i-nanotehnologii/Modelirovanie-processa-formirovaniya-sinusoidalnyh-golograficheskih-reshetok-metodom-termostimulirovannoi-elektronnoluchevoi-litografii-105617 | - |
dc.description.abstract | В данной работе описывается применение метода термостимулированной электронно-лучевой литографии для получения синусоидальныхголографических решеток в полимерном резисте, а также приводятся результаты моделирования результирующей формы профиля решеток при различных параметрах экспонирования. На примере моделирования линий, получаемых данным методом в ПММА установлено, что при правильном подборе параметров экспонирования форма результирующего профиля с высокой точностью является синусоидальной. | ru |
dc.language.iso | rus | ru |
dc.relation.ispartof | Информационные технологии и нанотехнологии (ИТНТ-2023) : сб. тр. по материалам IX Междунар. конф. и молодеж. шк. (г. Самара, 17-23 апр. 2023 г.): в 6 | ru |
dc.source | Информационные технологии и нанотехнологии (ИТНТ-2023). - Т. 1 : Компьютерная оптика и нанофотоника | ru |
dc.title | Моделирование процесса формирования синусоидальных голографических решеток методом термостимулированной электронно-лучевой литографии | ru |
dc.type | Text | ru |
dc.citation.spage | 013262 | ru |
dc.citation.volume | 1 | ru |
dc.textpart | Формирование результирующего профиля при этом описывается как результат затягивания микрополостей, образующихся в слое резиста при экспонировании. Для этого слой резиста со внутренними микрополостями приближается пилообразной поверхностью, для к... | - |
Располагается в коллекциях: | Информационные технологии и нанотехнологии |
Файлы этого ресурса:
Файл | Размер | Формат | |
---|---|---|---|
978-5-7883-1917-9_2023-013262.pdf | 554.74 kB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Показать базовое описание ресурса
Просмотр статистики
Поделиться:
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.