Отрывок: Определение условных допусков необходимо проводить с использованием ограничивающих критериев: – по допустимому изменению светового потока в пределах пиксела регистратора, – по допустимым смещениям и разворотам изображения в плоскости регистратора, – по сохранению ортоскопии изображения. Критерий допустимого изменения светового потока в пределах пиксела рег...
Название : | Оценка допустимых технологических погрешностей расположения оптических элементов для гиперспектрометра по схеме Оффнера |
Другие названия : | Estimation of permissible technological errors in the arrangement of optical elements for the hyperspectrometer according to the Offner's scheme |
Авторы/Редакторы : | Расторгуев, А.А. Харитонов, С.И. Казанский, Н.Л. Rastorguev, A.A. Kharitinov, S.I. Kazanskiy, N.I. |
Ключевые слова : | Offner scheme modeling technological errors |
Дата публикации : | 2018 |
Издательство : | Новая техника |
Библиографическое описание : | Расторгуев А.А. Оценка допустимых технологических погрешностей расположения оптических элементов для гиперспектрометра по схеме Оффнера / А.А. Расторгуев, С.И. Харитонов, Н.Л. Казанский // Сборник трудов IV международной конференции и молодежной школы «Информационные технологии и нанотехнологии» (ИТНТ-2018) - Самара: Новая техника, 2018. - С.448-452. |
Аннотация : | Рассмотрено математическое моделирование технологических погрешностей расположения оптических элементов для спектрометра по схеме Оффнера. Проведены расчёты условных допусков и анализ их влияния на изображение в плоскости регистратора. С использованием метода статистического моделирования технологической погрешности проведена оценка адекватности выбранных характеристик точности. We considered Mathematical modeling of technological errors in the arrangement of optical elements for the spectrometer according to the Offner's scheme. Calculations of conditional tolerances and analysis of their effect on the image in the plane of the recorder were carried out. We carried out the adequacy of the selected accuracy characteristics with using the method of statistical modeling of technological error. |
URI (Унифицированный идентификатор ресурса) : | http://repo.ssau.ru/handle/Informacionnye-tehnologii-i-nanotehnologii/Ocenka-dopustimyh-tehnologicheskih-pogreshnostei-raspolozheniya-opticheskih-elementov-dlya-giperspektrometra-po-sheme-Offnera-69699 |
Другие идентификаторы : | Dspace\SGAU\20180519\69699 |
Располагается в коллекциях: | Информационные технологии и нанотехнологии |
Файлы этого ресурса:
Файл | Описание | Размер | Формат | |
---|---|---|---|---|
paper_69.pdf | Основная статья | 207.89 kB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Показать полное описание ресурса
Просмотр статистики
Поделиться:
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.