Отрывок: Напыление производилось аргоно-водородной плазмой на модернизированной установке УПУ-8М малогабаритным плазматроном собственного производства. Расход аргона составлял 3 м3/ч, водорода 0,45 м3/ч, дистанция напыления 100 мм, скорость перемещения горелки 0,1 м/с, шаг сканирования 7,5 мм. Перед напылением образцы подвергали пескоструйной обработке. При определении остаточных напряжений прогиб образцов измерялся в проце...
Название : Расчет остаточных напряжений в плазменных покрытиях с учетом процесса наращивания
Другие названия : Calculation of residual stresses in plasma spray coatings taking into account the build-up process
Авторы/Редакторы : Богданович, В.И.
Гиорбелидзе, М.Г.
Bogdanovich, V.I.
Giorbelidze, M.G.
Дата публикации : Май-2019
Издательство : Новая техника
Библиографическое описание : Богданович В.И. Расчет остаточных напряжений в плазменных покрытиях с учетом процесса наращивания / Богданович В.И., Гиорбелидзе М.Г. // Сборник трудов ИТНТ-2019 [Текст]: V междунар. конф. и молодеж. шк. "Информ. технологии и нанотехнологии": 21-24 мая: в 4 т. / Самар. нац.-исслед. ун-т им. С. П. Королева (Самар. ун-т), Ин-т систем. обраб. изобр. РАН-фил. ФНИЦ "Кристаллография и фотоника" РАН; [под ред. В.А. Соболева]. – Самара: Новая техника, 2019. – Т. 3: Математическое моделирование физико-технических процессов и систем. - 2019. - С. 722-726.
Аннотация : Предложен метод определения остаточных напряжений в многослойных покрытиях, полученных плазменным газотермическим напылением. Определены остаточные напряжения в трехслойном плазменном покрытии. Проведена оценка влияния мощности плазменной дуги на характер распределения остаточных напряжений в покрытии, подслое и подложке. A method for determining the residual stresses in multilayer coatings obtained by plasma thermal spraying is proposed. Residual stresses in a three-layer plasma coating were determined. The influence of the plasma arc power on the distribution of residual stresses in the coating, sublayer and substrate are estimated.
URI (Унифицированный идентификатор ресурса) : http://repo.ssau.ru/handle/Informacionnye-tehnologii-i-nanotehnologii/Raschet-ostatochnyh-napryazhenii-v-plazmennyh-pokrytiyah-s-uchetom-processa-narashivaniya-76345
Другие идентификаторы : Dspace\SGAU\20190506\76345
Располагается в коллекциях: Информационные технологии и нанотехнологии

Файлы этого ресурса:
Файл Описание Размер Формат  
paper113.pdfОсновная статья323.53 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть
Показать полное описание ресурса Просмотр статистики
Поделиться:



Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.