Отрывок: Сни­ жение давления достигается введением дополнительных термо­ катода и анода, между которыми зажигается электрический раз­ ряд. Поток плазмы, создаваемый этим разрядом, инжектируется в зону распыления. При подаче на катод высокого отрицательного потенциала происходят отбор и ускорение ионов из плазмы, а также распыление загрязняющих поверхность подложек приме­ сей при их расположении на катоде. Формированию плазменного потока заданной фо...
Полная запись метаданных
Поле DC Значение Язык
dc.contributor.authorКолпаков В. А.ru
dc.contributor.authorФедеральное агентство по образованиюru
dc.contributor.authorСамарский государственный аэрокосмический университет им. С. П. Королеваru
dc.coverage.spatialоптические материалыru
dc.coverage.spatialионно-плазменные технологииru
dc.coverage.spatialповерхность подложкиru
dc.date.issued2008ru
dc.identifierRU/НТБ СГАУ/WALL/СГАУ:5/И 755-811734ru
dc.identifier.citationИонно-плазменная очистка поверхности подложек оптических материалов [Электронный ресурс] : [метод. указания к лаб. работе] / Федер. агентство по образованию, Самар. гос. аэрокосм. ун-т им. С. П. Королева ; [сост. В. А. Колпаков]. - Самара : [Изд-во СГАУ], 2008. - on-lineru
dc.description.abstractТруды сотрудников СГАУ (электрон. версия)ru
dc.description.abstractИспользуемые программы: Adobe Acrobatru
dc.format.extentЭлектрон. дан. (1 файл : 12,1 Мбайт)ru
dc.language.isorusru
dc.publisher[Изд-во СГАУ]ru
dc.relation.isformatofИонно-плазменная очистка поверхности подложек оптических материалов [Текст] : [метод. указания к лаб. работе]ru
dc.titleИонно-плазменная очистка поверхности подложек оптических материаловru
dc.typeTextru
dc.subject.rugasnti29.31ru
dc.subject.udc535.42(075)ru
dc.subject.udcСГАУ:5(075)ru
dc.textpartСни­ жение давления достигается введением дополнительных термо­ катода и анода, между которыми зажигается электрический раз­ ряд. Поток плазмы, создаваемый этим разрядом, инжектируется в зону распыления. При подаче на катод высокого отрицательного потенциала происходят отбор и ускорение ионов из плазмы, а также распыление загрязняющих поверхность подложек приме­ сей при их расположении на катоде. Формированию плазменного потока заданной фо...-
Располагается в коллекциях: Методические издания

Файлы этого ресурса:
Файл Описание Размер Формат  
Колпаков В.А.Ионно-плазменная чистка.pdf263.58 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть
Показать базовое описание ресурса Просмотр статистики
Поделиться:



Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.