Отрывок: Это связано с тем, что: во-первых, данный процесс сухой, количество загрязнений, попадающих на поверхность меньше, то есть не требуется дополнительных затрат на сушку и очистку от продуктов реакции; во-вторых, реагенты более безвредны, не воспламеняются; в-третьих, данный процесс автоматизирован, и включает в себя возможность совмещения в одном объеме нескольких технологических операций. Кроме того сухое травление обеспечивает более высокую разрешающую способность, в отличие от ж...
Название : | Исследование особенностей и селективности сухого травления кремния с использованием мягких масок |
Авторы/Редакторы : | Гзиришвили Л. Г. Харитонов С. И. Шишкина Д. А. Министерство науки и высшего образования Российской Федерации Самарский национальный исследовательский университет им. С. П. Королева (Самарский университет) Институт информатики математики и электроники |
Дата публикации : | 2021 |
Библиографическое описание : | Гзиришвили, Л. Г. Исследование особенностей и селективности сухого травления кремния с использованием мягких масок : вып. квалификац. работа по направлению подгот. 11.03.04 "Электроника и наноэлектроника" (уровень бакалавриата) / Л. Г. Гзиришвили ; рук. работы С. И. Харитонов ; нормоконтролер Д. А. Шишкина ; М-во науки и высш. образования Рос. Федерации, Самар. нац. исслед. ун-т им. С. П. Королева (Самар. ун-т), Ин-т информати. - Самара, 2021. - on-line |
Аннотация : | Объектом исследования является реактивно-ионное травление кремниячерез мягкие маски на основе фоторезистов марки ФП-3520 и ФП-051 КИ.Цель работы – исследование особенности и селективности сухоготравления кремния с использованием мягких масок.Рассмотрены достоинства и недостатки предложенных марокфоторезистов. Исследовано влияние технологических параметровизотропного травления и Bosch-процесса на селективность мягких масок.В результате работы был произведен обзор литературы методовлитографии, сухого травления, измерения глубины травления и толщинымаски. Были произведены фотолитографические процессы, плазмохимическоетравление исследуемых мягких масок, выполнены измерения глубинытравления и толщины масок. Проведен анализ полученных результатов иполучены зависимости скоростей травления от параметров процесса. Такжебыли исследованы особенности предложенных маскирующих покрытий.Практическая ценность работы заключается в возможности дальнейшейоптимизации параметров Bosch-процесса при изменении глобаль |
Другие идентификаторы : | RU\НТБ СГАУ\ВКР20210914154156 |
Ключевые слова: | BOSCH процессы интерферометрия белого света мягкие маски сухое травление кремния фотолитография |
Располагается в коллекциях: | Выпускные квалификационные работы |
Файлы этого ресурса:
Файл | Размер | Формат | |
---|---|---|---|
Гзиришвили_Лука_Георгиевич_Исследование_особенностей_селективности.pdf | 10.74 MB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Показать полное описание ресурса
Просмотр статистики
Поделиться:
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.