Отрывок: При использовании CVD необходимы надлежащие меры предосторожности. Вентиляция, очистка побочных продуктов и непрореагировавших соединений имеют важное значение в процессах CVD. CVD можно сгруппировать на основе энергии, используемой для запуска химической реакции. Источники энергии могут быть фотонными, лазерными или температурными (тепловыми). CVD охватыва...
Полная запись метаданных
Поле DC | Значение | Язык |
---|---|---|
dc.contributor.author | Лобова Т. С. | ru |
dc.contributor.author | Шишкина Д. А. | ru |
dc.contributor.author | Ерендеев Ю. П. | ru |
dc.contributor.author | Министерство науки и высшего образования Российской Федерации | ru |
dc.contributor.author | Самарский национальный исследовательский университет им. С. П. Королева (Самарский университет) | ru |
dc.contributor.author | Институт информатики и кибернетики | ru |
dc.coverage.spatial | антиотражающее покрытие | ru |
dc.coverage.spatial | вакуум | ru |
dc.coverage.spatial | коэффициент отражения | ru |
dc.coverage.spatial | магнетронное напыление | ru |
dc.coverage.spatial | многослойные тонкопленочные структуры | ru |
dc.coverage.spatial | реактивное распыление | ru |
dc.coverage.spatial | спектроскопия | ru |
dc.coverage.spatial | тонкие металлические пленки | ru |
dc.creator | Лобова Т. С. | ru |
dc.date.accessioned | 2022-09-16 14:22:39 | - |
dc.date.available | 2022-09-16 14:22:39 | - |
dc.date.issued | 2022 | ru |
dc.identifier | RU\НТБ СГАУ\ВКР20220810101133 | ru |
dc.identifier.citation | Лобова, Т. С. Методы нанесения тонких металлических плёнок : вып. квалификац. работа по направлению подгот. 11.03.04 "Электроника и наноэлектроника" (уровень бакалавриата) / Т. С. Лобова ; рук. работы Д. А. Шишкина ; нормоконтролер Ю. П. Ерендеев ; М-во науки и высш. образования Рос. Федерации, Самар. нац. исслед. ун-т им. С. П. Королева (Самар. ун-т), Ин-т информатики и. - Самара, 2022. - 1 файл (931 Кб). - Текст : электронный | ru |
dc.identifier.uri | http://repo.ssau.ru/handle/Vypusknye-kvalifikacionnye-raboty/Metody-naneseniya-tonkih-metallicheskih-plenok-98714 | - |
dc.description.abstract | В данной выпускной квалификационной работе разработанамаршрутная карта нанесения антиотражающего покрытия на основе многослойной тонкопленочной структуры с помощью реактивного магнетронного распыления.Объектом исследования является кремниевая пластина, на поверхность которой нанесены слои диоксида кремния и хрома. Данное покрытие уменьшает коэффициент отражения. Требуемый коэффициент отражения неболее 20% при длине волны λ=700 нм. В процессе работы использована установка магнетронного напыления ЭТНА-100-МТ. Исследованы оптические характеристики абсорбера – толщина пленки и коэффициент отражения при λ=700 нм с помощью спектроскопического рефлектометра и интерферометра белого света WLI-DMR. | ru |
dc.title | Методы нанесения тонких металлических плёнок | ru |
dc.type | Text | ru |
dc.subject.rugasnti | 55.22 | ru |
dc.subject.udc | 621.793.7 | ru |
dc.textpart | При использовании CVD необходимы надлежащие меры предосторожности. Вентиляция, очистка побочных продуктов и непрореагировавших соединений имеют важное значение в процессах CVD. CVD можно сгруппировать на основе энергии, используемой для запуска химической реакции. Источники энергии могут быть фотонными, лазерными или температурными (тепловыми). CVD охватыва... | - |
Располагается в коллекциях: | Выпускные квалификационные работы |
Файлы этого ресурса:
Файл | Размер | Формат | |
---|---|---|---|
Лобова_Татьяна_Сергеевна_Методы_нанесения_тонких_металлических.pdf | 930.72 kB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Показать базовое описание ресурса
Просмотр статистики
Поделиться:
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.