Отрывок: В основном в плазме тлеющего разряда подложки нагреваются из-за высокоэнергетических вторичных электронов, выходящих с мишени. В магнетронной распылительной системе вторичные электроны захватываются магнитной ловушкой и не бомбардируют подложку, что обеспечивает ее сравнительно низкую температуру. В таких системах подложки нагреваются из-за кинетической энергии и энергии конденсации осаждаемых атомов, энергии ионов, которые...
Полная запись метаданных
Поле DC | Значение | Язык |
---|---|---|
dc.contributor.author | Шунайлов П. П. | ru |
dc.contributor.author | Архипов А. В. | ru |
dc.contributor.author | Лофицкий И. В. | ru |
dc.contributor.author | Министерство образования и науки Российской Федерации | ru |
dc.contributor.author | Самарский национальный исследовательский университет им. С. П. Королева (Самарский университет) | ru |
dc.contributor.author | Институт информатики | ru |
dc.contributor.author | математики и электроники | ru |
dc.coverage.spatial | магнетронное напыление | ru |
dc.coverage.spatial | тонкопленочные конденсаторы | ru |
dc.coverage.spatial | технологические процессы | ru |
dc.creator | Шунайлов П. П. | ru |
dc.date.issued | 2018 | ru |
dc.identifier | RU\НТБ СГАУ\ВКР20180718143525 | ru |
dc.identifier.citation | Шунайлов, П. П. Разработка конструкции и исследование параметров тонкопленочного конденсатора : вып. квалификац. работа по спец. "Электроника и наноэлектроника" / П. П. Шунайлов ; рук. работы А. В. Архипов; рец. И. В. Лофицкий ; М-во образования и науки Рос. Федерации, Самар. нац. исслед. ун-т им. С. П. Королева (Самар. ун-т), Ин-т информатики, математики и эле. - Самара, 2018. - on-line | ru |
dc.description.abstract | Объектом исследования является технология создания тонких пленок,предмет исследования - тонкопленочный конденсатор.Цель работы – произвести разработку конструкции и исследованиепараметров тонкопленочного конденсатора.В работе изучены методы нанесения | ru |
dc.format.extent | Электрон. дан. (1 файл : 2,6 Мб) | ru |
dc.title | Разработка конструкции и исследование параметров тонкопленочного конденсатора | ru |
dc.type | Text | ru |
dc.subject.rugasnti | 47.61 | ru |
dc.subject.udc | 621.316.8 | ru |
dc.textpart | В основном в плазме тлеющего разряда подложки нагреваются из-за высокоэнергетических вторичных электронов, выходящих с мишени. В магнетронной распылительной системе вторичные электроны захватываются магнитной ловушкой и не бомбардируют подложку, что обеспечивает ее сравнительно низкую температуру. В таких системах подложки нагреваются из-за кинетической энергии и энергии конденсации осаждаемых атомов, энергии ионов, которые... | - |
Располагается в коллекциях: | Выпускные квалификационные работы |
Файлы этого ресурса:
Файл | Размер | Формат | |
---|---|---|---|
Шунайлов_Павел_Павлович_Разработка_конструкции_исследование.pdf | 2.67 MB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Показать базовое описание ресурса
Просмотр статистики
Поделиться:
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.