Отрывок: Для примера при травлении пленки диоксида кремния SiO2, напыленного на подложку из кремния Si, часто применяются водные растворы фтороводородной кислоты. Отношение скоростей травления диоксида кремния кремнию в таких растворах составляет приблизительно 1 к 100. То есть за время травления 100 нм диоксида кремния подложка из кремния будет подтравлена только на 1 нм [16]. Селективность является важным параметром для жидкостного травления, потому что х...
Полная запись метаданных
Поле DC | Значение | Язык |
---|---|---|
dc.contributor.author | Миненков П. И. | ru |
dc.contributor.author | Агафонов А. Н. | ru |
dc.contributor.author | Саноян А. Г. | ru |
dc.contributor.author | Минобрнауки России | ru |
dc.contributor.author | Самарский национальный исследовательский университет им. С. П. Королева (Самарский университет) | ru |
dc.contributor.author | Институт информатики | ru |
dc.contributor.author | математики и электроники | ru |
dc.coverage.spatial | селективность | ru |
dc.coverage.spatial | изотропное травление | ru |
dc.coverage.spatial | предметное стекло | ru |
dc.coverage.spatial | фотолитография | ru |
dc.coverage.spatial | дефекты | ru |
dc.coverage.spatial | травление | ru |
dc.coverage.spatial | микрорельефы | ru |
dc.coverage.spatial | микрофлюидные чипы | ru |
dc.coverage.spatial | неровности поверхности | ru |
dc.creator | Миненков П. И. | ru |
dc.date.issued | 2019 | ru |
dc.identifier | RU\НТБ СГАУ\ВКР20190808094959 | ru |
dc.identifier.citation | Миненков, П. И. Влияние режимов локального жидкостного травления стеклянных подложек на профиль полученного микроканала : вып. квалификац. работа по направлению подгот. "Электроника и наноэлектроника" (уровень бакалавриата) / П. И. Миненков ; рук. работы А. Н. Агафонов ; нормоконтролер А. Г. Саноян ; Минобрнауки России, Самар. нац. исслед. ун-т им. С. П. Королева (Самар. ун-т), Ин-т информатики, математики и электроники, Ф. - Самаpа, 2019. - on-line | ru |
dc.description.abstract | Цель работы: изучение зависимости влияния различных режимов локального жидкостного травления на формирование получаемых микроканалов. Исходя из поставленной цели, были сформулированы следующие задачи: 1) Анализ современных методов формирования микрорельефов в стеклянных подложках. 2) Изучение особенностей проведения процесса жидкостного химического травления. 3) Изучение факторов, определяющих режимы травления. 4) Экспериментальные исследования влияния режимов жидкостного травления на профиль формируемого микроканала. | ru |
dc.format.extent | Электрон. дан. (1 файл : 1,8 Мб) | ru |
dc.title | Влияние режимов локального жидкостного травления стеклянных подложек на профиль полученного микроканала | ru |
dc.type | Text | ru |
dc.subject.rugasnti | 55.03 | ru |
dc.subject.udc | 621.794.4 | ru |
dc.textpart | Для примера при травлении пленки диоксида кремния SiO2, напыленного на подложку из кремния Si, часто применяются водные растворы фтороводородной кислоты. Отношение скоростей травления диоксида кремния кремнию в таких растворах составляет приблизительно 1 к 100. То есть за время травления 100 нм диоксида кремния подложка из кремния будет подтравлена только на 1 нм [16]. Селективность является важным параметром для жидкостного травления, потому что х... | - |
Располагается в коллекциях: | Выпускные квалификационные работы |
Файлы этого ресурса:
Файл | Размер | Формат | |
---|---|---|---|
Миненков_Павел_Игоревич_Влияние_режимов_локального_жидкостного.pdf | 1.84 MB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Показать базовое описание ресурса
Просмотр статистики
Поделиться:
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.