Отрывок: Для изготовления пресс-формы используются металлы, полупроводники и диэлектрики, как правило, применяя метод электронной литографии. Рисунок 7 - Схема нанопечатной литографии (остатки резиста на вдавленных участках анизотропно вытравливаются): 1 - подложка, 2 - резист, 3 - штамп Метод нанопечатной литографии лишён основных проблем других литографических методов, таких как эффекты близости, диффузионный предел, а та...
Полная запись метаданных
Поле DC | Значение | Язык |
---|---|---|
dc.contributor.author | Хоробров В. С. | ru |
dc.contributor.author | Паранин В. Д. | ru |
dc.contributor.author | Министерство науки и высшего образования Российской Федерации | ru |
dc.contributor.author | Самарский национальный исследовательский университет им. С. П. Королева (Самарский университет) | ru |
dc.contributor.author | Институт информатики | ru |
dc.contributor.author | математики и электроники | ru |
dc.coverage.spatial | технологические процессы | ru |
dc.coverage.spatial | электронная литография | ru |
dc.coverage.spatial | шаблон | ru |
dc.coverage.spatial | BOSCH процессы | ru |
dc.coverage.spatial | кремниевая подложка | ru |
dc.coverage.spatial | маска | ru |
dc.coverage.spatial | маскирующие покрытия | ru |
dc.coverage.spatial | сухое травление | ru |
dc.creator | Хоробров В. С. | ru |
dc.date.issued | 2020 | ru |
dc.identifier | RU\НТБ СГАУ\ВКР20200914152041 | ru |
dc.identifier.citation | Хоробров, В. С. Получение маскирующих покрытий методом электронной литографии для сухого травления : вып. квалификац. работа по направлению подгот. 11.03.04 "Электроника и наноэлектроника" (уровень бакалавриата) / В. С. Хоробров ; рук. работы В. Д. Паранин ; М-во науки и высш. образования Рос. Федерации, Самар. нац. исслед. ун-т им. С. П. Королева (Самар. ун-т), Ин-т информатики, математики и электроники, Фак-т. - Самара, 2020. - on-line | ru |
dc.description.abstract | Проведён поиск необходимой литературы в области микро- и нанотехнологий. Обоснована целесообразность использования конкретных методов травления и литографии для проведения технологического процесса. Проведена оптимизация технологического процесса сухого травления приповерхностного слоя кремния. В ходе ВКР была получена технология прямого литографического процесса с высоким разрешением и возможностью создания квазинепрерывного профиля, позволяющая производить быстрое прототипирование устройств в приповерхностном слое кремния. | ru |
dc.format.extent | Электрон. дан. (1 файл : 1,7 Мб) | ru |
dc.title | Получение маскирующих покрытий методом электронной литографии для сухого травления | ru |
dc.type | Text | ru |
dc.subject.rugasnti | 47.13.11 | ru |
dc.subject.udc | 621.3.049.77 | ru |
dc.textpart | Для изготовления пресс-формы используются металлы, полупроводники и диэлектрики, как правило, применяя метод электронной литографии. Рисунок 7 - Схема нанопечатной литографии (остатки резиста на вдавленных участках анизотропно вытравливаются): 1 - подложка, 2 - резист, 3 - штамп Метод нанопечатной литографии лишён основных проблем других литографических методов, таких как эффекты близости, диффузионный предел, а та... | - |
Располагается в коллекциях: | Выпускные квалификационные работы |
Файлы этого ресурса:
Файл | Размер | Формат | |
---|---|---|---|
Хоробров_Виталий_Сергеевич_Получение_маскирующих_покрытий_методом.pdf | 1.71 MB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Показать базовое описание ресурса
Просмотр статистики
Поделиться:
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.